Industrie & Technologies réalise le portrait d'un chercheur du CRHEA qui façonne les surfaces de silicium atome par atome
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Industrie & Technologies a réalisé le portrait de Fabrice Semond, chercheur CNRS au CRHEA -Centre de Recherche sur l'Hétéro-Epitaxie et ses Applications-, qui façonne les surfaces de silicium atome par atome. Il travaille depuis plus de vingt ans sur l’épitaxie par jets moléculaires de nitrure de gallium sur silicium. Sa start-up EasyGaN, qui exploite cette technologie pour la filière électronique, a développé des substrats avancés.